说白了，当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。
前世，落后得太多。
那时候，欧美euv都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追duv光刻机，自然难。
可这一次，大家都还是duv，那就简单了。
至于阿斯麦的euv，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是duv光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的duv。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。
因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。
