他们真心不觉得这次也能成功。
虽然内心带有质疑，但他们还是老老实实来到了自己的设备前，像往常那样开始进行调试工作。
实验室的中央位置，是一个EUV光刻机平台，上面有照明单元、掩模板台、晶圆台等模块，从外形来看，就像一个大型的精密仪器。
此时实验成员们已经穿好了清洁服UV护目镜与防辐射手套。
吴富国亲自来到了控制台，神情肃然地盯着电脑屏幕上的数据变化。
“下面进行EUV双曝光实验！”
此话一出。
实验室的成员纷纷大吃一惊。
平时他们实验时，只会对光进行一次曝光。
力求制造更强更短波长的光。
但最终都以失败告终。
但这一次，吴富国居然要求他们曝两次光。
但曝光两次就有用了吗?
对于此次实验，众人的内心都疑虑和质疑。
似乎是看出了大家的疑惑。
吴富国保证道：“相信我，这次一定能造出更短更强波长的光！”
一名成员小心翼翼地将涂布了EUV光刻胶的晶圆装载到了光刻机的晶圆台上。
“调整光源参数，立即开启EUV光源。”
吴富国紧紧地盯着实验参数，沉声说道。
实验员们马上紧锣密鼓的开始了实验。
嗡。
一台大型激光设备正常运作，开始输出稳定的EUV激光脉冲。
“很好，进行一次EUV曝光，曝光一定剂量。”
“保持晶圆位置不变，开始进行第二次EUV曝光！”
控制台前，吴富国紧紧地盯着不断跳动的实验参数和数据，声音都有些发抖。
可想他此时的心情有多忐忑。
实验助理员在一旁迅速地做着记录参数。
片刻，不知道是谁激动喊了一声。
“我的老天！”
“成功了！”
“这次光的强度比上次实验的数据有了明显提升！”
