胡正明：微电子学家，美国国籍。祖籍江苏省金坛市城西马干村。
1947年7月出生于中国北京。
1968年台湾大学电机系毕业，获学士学位。
1969年赴美国加州大学伯克利分校留学，1970年获硕士学位。1973年获美国加州大学伯克利分校博士学位。
胡正明是微电子微型化物理及可靠性物理研究的一位重要开拓者。对半导体器件的开发及未来的微型化做出了重大贡献。
主要科技成就为：领导研究出BSIM。从实际MOSFET晶体管的复杂物理推演出数学模型。该模型于1997年被国际上38家大公司参与的晶体管模型理事会选为设计芯片的第一个且唯一的国际标准。发明了在国际上极受注目的FinFET等多种新结构器件。他还是鳍式场效晶体管的发明者，解决了晶体做薄后的漏电问题，并向上发展，使晶片内构从水平变成垂直。从而打破了原来英特尔对全世界宣布的将来半导体的限制。
当然，胡正明所做的贡献并不止这些，还有很多很多。仅在美国申请的各项专利就超过百项。不过其中很大一部分都是1990年后创造的。
现在的胡正明还没有达到他科研事业和荣誉的巅峰。尽管如此，他已经是享誉世界的微电子学家了。为美国国家工程院院士、柏克莱加州大学校长讲座教授、TSMC杰出讲座教授等。
两人握了下手后，胡正明笑了笑，略显疑惑的说道：“请恕我直言，不知卫先生找我有什么事？”
也难怪胡正明奇怪。在此之前他跟卫雄从未谋面，在生活和工作上貌似也没有任何交集，那卫雄突然跟他打招呼干嘛？难道仅是出于礼貌？
他虽然自认在微电子方面有一些成就，但这些成就显然还不至于让一个世界首富对他如此客气。
卫雄微微一笑，答非所问：“胡教授这次来纽约是……”
胡正明也不在意，说道：“明天在纽约大学有一个学术讲座，之后还有一些其他事要处理。”
正好！卫雄心里暗道了一声，开口说道：“不知这两天胡教授有没有时间，我有点事想跟你谈谈。”
闻言，胡证明眉头微微一皱。他是搞微电子的，卫雄说有事跟他谈，显然是有关微电子方面的，至于具体是什么他却是猜不出来。沉吟了下，说道：“明天下午三点，如何？”
不管卫雄邀请他的目的是什么，他都没办法拒绝，否则等于是直接扇卫雄的耳光，这明显没必要。
卫雄点头道：“那就明天下午三点。”接着从站在他左后侧的崔慕青手上接过一张名片：“这是我的名片，到时候你可以打我的电话。”
胡正明接过名片看了看，郑重的收进了口袋：“好的。”
……
晚餐卫雄是在约瑟夫家里吃的，晚餐后两人来到书房，谈话的内容主要集中在日本的银行业。
随着1990年元旦，经济泡沫的破裂。日本股市和房市一夜之间崩溃，而且因为卫雄的干预，这种崩溃远比原来的历史更加严重。且直接波及到了实体经济。
1989年日本GDP的增长率是7.7%，但1990年第三季度的增长率已经呈直线下降到了3.4%。且仍在不断下滑。预计第四季度的GDP增长率将再创新低，达到2.7%。这对整个日本来说无疑是毁灭般的灾难。
具体现象就是许多企业出现经营困难，甚至破产。银行和企业之间的超借和超贷行为使银行形成了大量不良债权。再加上股市崩溃时直接形成的坏账。让银行不堪负重。
但是由于日本政府的保护，现阶段还没有大银行和大的金融机构破产，但这显然只是暂时的。因为日本经济依然在下滑。
当长期积累的坏账死账达到一个程度，终究会爆发，到那时自顾不暇的日本政府还如何保护？
而卫雄和约瑟夫就是瞄准了日本银行业。
就长远来看，日本未来依然会是世界最大的经济体之一，投资其银行业仍然是有利可图的。
约瑟夫把一份资料放在卫雄面前。微笑的说道：“根据我的调查，住友财团旗下的中核银行和住友银行坏账规模已分别达到30亿和50亿美元。若非有日本政府支持，早就破产了。”
